（2014•宿迁模拟）三氟化氮（NF3）是微电子工 - 知识问答

（2014•宿迁模拟）三氟化氮（NF3）是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF3+5H2

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解题思路：3NF₃+5H₂O=2NO+HNO₃+9HF反应中，只有N元素的化合价发生变化，NF₃既是氧化剂又是还原剂，从化合价的变化的角度分析氧化还原反应．
A．只有N元素的化合价发生变化，NF₃既是氧化剂又是还原剂，故A错误；
B．NF₃生成NO，被还原，NF₃生成HNO₃，被氧化，还原剂与氧化剂的物质的量之比为1：2，故B错误；
C．生成0.2molHNO₃，转移的电子的物质的量为0.2mol×（5-3）=0.4mol，故C错误；
D．生成的NO易与空气中氧气反应生成红棕色气体二氧化氮，故D正确．
故选D．
点评：
本题考点：氧化还原反应．
考点点评：本题考查氧化还原反应，题目难度中等，注意化合价的升降为氧化还原反应的特征，注意从化合价的角度分析．

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