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最佳答案：气相沉积法 化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料在PECVD和HDPCVD系统中有些方面还特别令人感兴趣是通过调节能量,偏压以及其
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最佳答案：这个问题也困扰我好久了!谢谢了!“热蒸发法是物理气相沉积,前体就是ZnO.CVD的前体一般是锌粉,在气流中有氧气反应生成ZnO,有时可能还用点催化剂,所以叫做化
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最佳答案：这是机理性的东西,CVD 法是在高温条件下分解含有C元素的原料气体,生成碳原子,甲基原子团等活性粒子,并在合适的工艺条件下,在基底材料上沉积出金刚石膜的方法.对