其含义是气相中化学反应的固体产物沉积到表面.CVD装置由下列部件组成；反应物供应系统,气相反应器,气流传送系统.反应物多为金属氯化物,先被加热到一定温度,达到足够高的蒸汽压,用载气（一般为Ar或H2）送入反应器.如果某种金属不能形成高压氯化物蒸汽,就代之以有机金属化合物.在反应器内,被涂材料或用金属丝悬挂,或放在平面上,或沉没在粉末的流化床中,或本身就是流化床中的颗粒.化学反应器中发生,产物就会沉积到被涂物表面,废气（多为HCl或HF）被导向碱性吸收或冷阱.
沉积反应可认为还原反应、热解反应和取代反应几类.CVD反应可分为冷壁反应与热壁反应.在热壁反应中,化学反应的发生与被涂物同处一室.被涂物表面和反应室的内壁都涂上一层薄膜.在热壁反应器中只加热被涂物,反应物另行导入.